上海微电子装备（集团）股份有限公司

中国唯一具备高端光刻机整机研制能力的企业，承担国家 02 重大专项光刻机攻关任务。公司产品覆盖先进封装光刻机、LED/MEMS 制造光刻机、激光退火设备与检测设备，其 90nm 级 ArF 干式光刻机已交付产线使用，并在推进 28nm 浸没式光刻机研发。在 ASML 垄断全球高端光刻机的格局下，SMEE 是中国半导体设备链上最难替代、也最关键的一环。

代表性产品与技术

先进封装光刻机 · ArF 干式光刻机 · 激光退火设备 · 缺陷检测设备

美方认为上海微电子装备的光刻机研发直接服务于中国半导体自主化与军事现代化目标，其技术突破将削弱美国对华技术管制效果。将其列入实体清单后，公司无法获得美国原产的精密光学元件、激光器、控制软件与计量部件，这直接卡住了国产光刻机的精度与稳定性提升。限制逻辑是“卡住整机、延缓节点”。

限制关键词

光刻机02 专项设备自主

关键光学与控制系统进口受阻，转向国产供应链替代，研发周期拉长。

• 2022 年 12 月 16 日列入
  实体清单

  BIS 将上海微电子装备列入实体清单

  87 FR 77505

1. 联邦公报：Additions and Revisions to the Entity List and Conforming Removal From the Unverified List（87 FR 77505）