中微半导体设备（上海）股份有限公司

中国刻蚀设备领域的领头羊，介质刻蚀机已进入全球一线晶圆厂 5nm 产线，是少数在先进制程上与泛林、应用材料正面竞争的中国设备商。公司由尹志尧博士创立，团队多有硅谷背景，产品覆盖 CCP/ICP 刻蚀、MOCVD（用于 LED 与 GaN 器件）以及薄膜沉积设备。其刻蚀设备在国内先进逻辑与存储产线的国产化率持续提升。

代表性产品与技术

CCP/ICP 刻蚀机 · MOCVD 设备 · 薄膜沉积设备

美方将中微公司列入实体清单，理由是其实质参与中国先进制程能力建设，且被认定与中国军方存在“间接关联”风险。限制使其无法采购美国原产的射频电源、真空阀门、陶瓷件与部分控制软件。对中微而言，这直接影响高端刻蚀机的产能与交付，也抬高了其服务先进制程客户的合规成本。

限制关键词

刻蚀设备先进制程国产替代

加速关键零部件国产化，同时调整海外客户结构以规避合规风险。

• 2024 年 12 月 2 日列入
  实体清单

  BIS 将中微公司列入实体清单

  89 FR 96830

1. 联邦公报：Additions and Modifications to the Entity List; Removals From the Validated End-User (VEU) Program（89 FR 96830）